行业及公司介绍：
数码产业和传统工业已经成为国民经济的两大支柱。数码产业的发展正在彻底改变人类的生产方式和生活方式。半导体微观加工设备作为数码产业的基石，是发展集成电路和数码产业的关键，已成为人们最关注的硬科技产业之一。
公司主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备，是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。由于光刻机的波长限制和2D芯片到3D芯片的发展，等离子体刻蚀设备越来越成为卡脖子的设备，也成为十大类关键设备市场最大的一类，占半导体前道设备总市场的约25%。公司布局的薄膜设备（主要是化学薄膜和外延设备）是除光刻机和刻蚀机外第三大设备市场。此外，中微公司通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。公司另一个主打产品MOCVD设备是三五族化合物半导体制造的最关键的核心设备。这种高端外延设备从照明，向大面积显示屏、功率器件、微显示等新兴领域迅速扩展，市场领域扩展迅猛。全球有能力参与高端设备主流市场竞争的企业非常有限，中微公司在这些高端设备领域已有领先的布局和影响力。至2022年底，公司累计已有3,311台等离子体刻蚀和化学薄膜的反应台，在国内、亚洲和欧洲的106条生产线，全面实现了量产和大量重复性销售，赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持。
公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，累计已有2,320台反应台在生产线合格运转。在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备均实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转。公司的ICP电感性低能等离子体刻蚀机自推出以来，不断地核准更多的刻蚀应用，迅速的扩大了市场并收到领先客户的批量订单，已在超过20个客户包括逻辑、DRAM和3D NAND等各类芯片生产线上进行超过100多个ICP刻蚀工艺的量产，并持续扩展到更多刻蚀应用的验证，发展势头强劲。同样应用ICP技术的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等刻蚀市场继续获得批量重复订单。
除刻蚀设备外，公司制造的氮化镓基LED的关键设备MOCVD设备在新一代Mini-LED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先的地位。公司正在开发的用于氮化镓和碳化硅功率器件的外延设备，以及制造Micro-LED的MOCVD专用设备，将陆续推向市场。
此外，公司的各种新产品开发，包括用于更先进微观器件制程的极高深宽比刻蚀设备、LPCVD薄膜设备、EPI外延设备和多种MOCVD设备，也取得了可喜的进展，即将为公司贡献销售收入。
公司从2012年到2022年十年的平均年营业收入一直保持了高于35%的增长率。公司2022年实现营业收入47.40亿元，较上年同期增长52.50%，再创历史新高。公司2022年新签订单金额约63.2亿元，较2021年增加约21.9亿元，同比增加约53.0%，订单销售比达到1.33。
问答环节主要内容：
1、请问公司2022年收入保持高速增长的原因？
答：2022年公司营业收入47.40亿元，同比增长52.50%。主要原因是由于公司主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机外最关键、工艺难度最高的半导体前道加工设备。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，市场占有率不断提高，在国际最先进的 5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现了多次批量销售。公司的另一个主打产品 MOCVD 设备在新一代 Mini-LED 产业化中，在蓝绿光 LED 生产线上取得了绝对领先的地位。另外，公司的各种新产品开发，比如用于更先进微观器件制程的薄膜设备和刻蚀设备，也取得了可喜的进展，即将为公司高速和持续的销售增长做出贡献。
2、公司2022年确认收入的产品结构如何？
答：根据公司初步统计，2022年度的营业收入构成主要以这刻蚀设备和MOCVD设备为主。公司2022年度主营业务具体分行业、产品等情况敬请关注公司后续公开披露信息。
3、公司产品在客户端的占比情况及趋势如何？
答：公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，累计已有2,320台反应台在生产线合格运转。在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备均实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转。
公司的ICP电感性低能等离子体刻蚀机自推出以来，不断地核准更多的刻蚀应用，迅速的扩大了市场并收到领先客户的批量订单，已在超过20个客户包括逻辑、DRAM和3D NAND等各类芯片生产线上进行超过100多个ICP刻蚀工艺的量产，并持续扩展到更多刻蚀应用的验证，发展势头强劲。同样应用ICP技术的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等刻蚀市场继续获得批量重复订单。
除刻蚀设备外，公司制造的氮化镓基LED的关键设备MOCVD设备在新一代Mini-LED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先的地位。公司正在开发的用于氮化镓和碳化硅功率器件的外延设备，以及制造Micro-LED的MOCVD专用设备，将陆续推向市场。
公司开发的一系列微观加工的设备产品都已在性能和性价比上进入国际三强行列，有些产品甚至进入二强和一强地位。
4、请问公司在薄膜沉积领域的研发布局和战略规划是怎么样的？
答：公司开发了MOCVD设备，有超过十年做单晶硅外延设备的经验，所以我们现在紧锣密鼓开发在硅和锗硅方面在集成电路需要的EPI设备。因为我们有长足的薄膜设备经验，我们有信心能开发出很好的EPI设备。
另外一个我们开发的是导体类的沉积设备LPCVD，叫低压热化学的反应器，目前已经在客户端验证，从LPCVD做到ALD都是围绕着硅的金属化合物的沉积，导体类的沉积会是我们目前开发设备的重点。
5、请问刻蚀设备的新签订单情况和趋势？
答：公司的刻蚀设备在工艺覆盖度方面不断提升，在客户端验证的工艺进度良好，未来公司将努力不断提升市场份额。
6、目前公司是否在培养国产零部件的供应体系？
答：公司高度重视零部件的国产化。到现在为止，刻蚀机有约60%的零部件国产化率， MOCVD有约80%的零部件国产化率。公司在每一个零部件上都做了很多的功课，都有供应厂商在跟公司合作来开发，希望尽快的能够把部分短板给补起来。
7、如何看待ICP业务的成长空间？
答：根据机构统计数字，2021年ICP全球市场约100亿美元。中微的刻蚀团队拥有丰富的ICP设备开发经验，尹志尧博士也是全球ICP设备技术的主要推动者之一。公司的ICP产品进入市场后，付运机台数量增长迅速，公司的ICP设备用了很多的差异化设计，并且有双台机和单台机两种配置可供客户选择。
8、公司MOCVD取得了很好的份额和定位，如何看待这块业务未来的成长性？
答：MOCVD设备目前在照明、显示市场应用广泛。更重要的是Mini LED和Micro LED市场的拓展，相关市场的发展前景很大。MOCVD设备重要的应用还包括功率器件等。市场机构预测到2026年，全球每年需求超过800台MOCVD设备。中微公司在其中三个领域有开发相关产品，公司将继续开发照明、显示领域，包括Mini LED，Micro LED，以及功率器件等等领域的外延设备。公司预计可以覆盖大约75%的MOCVD设备市场。未来市场空间非常广阔。
9、公司的企业文化是怎么样的？
答：2022年公司不断升华具有中微特色的公司体制和文化，持续提升公司管理及综合竞争力。公司总结了过去18年的成长及发展的历程，学习国内外先进高科技企业的发展经验，总结了科创企业发展的“四个十大”：“产品开发的十大原则”、“战略销售的十大准则”、“营运管理的十大章法”和“精神文化的十大作风”。通过不断学习和贯彻“四个十大”，使公司各个部门及员工的总能量和对外竞争的净能量做到最大化。