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来源：中国经营报收集编辑：于布林
荷兰将于今年夏天开始实施新的半导体先进技术出口限制措施的消息传出一周之后，中国内地已经完成进口的光刻机设备是否受到影响引起关注。日前，在回复《中国经营报》记者询问时，荷兰阿斯麦公司（以下简称“ASML”）方面表示：“此次新的出口管制将限制新的设备和备件的运送。”这一度让业界担心，中国内地已完成进口的光刻机设备维护维修会受到影响。来自芯片制造厂商的答复，可以暂时打消这一担心。3月17日，记者收到台积电方面对此问题的答复：针对荷兰可能出台的新出口管制措施，“预计不会对在中国的业务产生重大影响”。台积电是ASML最重要的客户之一，在中国内地设有多家芯片工厂。3月8日，荷兰贸易大臣Schreinemacher致信议会，称将跟随美国限制出口与半导体有关的先进技术。全球最重要的光刻机生产企业ASML随后称，将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式“DUV系统”（以下简称“DUV”）。尽管“最先进”的标准未能明确，但ASML倾向于将其理解为“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口将受到限制。光刻机按照光源的波长划分，历经了UV（Ultraviolet，紫外光）、DUV（Deep Ultraviolet，深紫外光）、EUV（Extreme Ultraviolet，极紫外光）的发展过程，EUV最为先进，DUV次之，是一种较为成熟的光刻技术，电磁辐射波长在200~400纳米之间，可以实现较高的分辨率和较低的成本。台积电、SK海力士、三星以及一些中国内地芯片制造公司的工厂都有使用。在此之前，虽然更先进的EUV已经被禁止向中国出口，但DUV未受影响。中国内地已经完成进口或正在使用的DUV是否受到影响，取决于关键部件的设计和实际使用寿命。DUV关键零部件包括光源、光学系统、控制系统、显影机和晶圆台等，它们的设计寿命相对较长。例如，光学系统的关键部件透镜组、投影镜组、光栅、镜面的设计寿命一般为5~10年，用以保证加工质量和精度的偏振器设计寿命一般在3~5年。了解技术的人士提醒记者，设计寿命的“实现”与使用环境、维护和保养条件有关，就DUV设备整体而言，一般6个月可以进行一次维护，发现部件老化或耗损要及时更换和维修。由于光刻机属于精密设备，须由专业机构和人士提供维护、维修。记者查阅Schreinemacher写给议会的信件，未发现提及会对服务采取限制措施的表述。据此，业内人士相信，在中国内地已经完成进口的DUV设备大都还处在关键部件的设计寿命以内，只要正常维护保养就暂无影响。ASML并未对外披露近年购置DUV客户及其区域分布的具体信息，但这并不影响做出中国内地是其重要市场之一的判断。年度财务报告显示，2018~2022年5年间，除2019年，ASML在中国内地的净销售总额均呈现上升状态。2022年全年净销售总额29.16亿欧元，是第三大市场。既然当下影响不大，那么未来影响几何？这需要更加具体地识别ASML的哪些DUV产品将会受到限制，其中，“关键的浸润式光刻系统”概念的范围十分重要。按照波长，ASML将DUV分为ArFi、ArF、KrF、i-line四个产品序列，ArFi最为先进。专业技术人士向记者解释，从原理角度看，ArFi使用氩氟化物 （ArF ）作为激光光源，以193纳米波长光刻，采用浸润技术，在曝光前，使用一层液体材料将掩膜和芯片表面紧密接触，以减小曝光时光线的折射和散射，从而提高分辨率和精度。依据ASML的法定文件，ArFi又可分为两类产品，分别是“critical（关键）”和“mid - critical（中等关键）”。前者产品包括NXT:2000i、NXT:2050i、NXT:2100i，前两款产品分别在2020年和2021年推出，NXT:2100i则在2022年~2023年推出。三款产品的对准精度分别为2.0纳米、1.5纳米、1.3纳米。“对准精度”是指，光刻机在进行芯片加工时，在对准芯片和掩模图案时能够达到的精度。对准精度一般以纳米衡量，纳米数值越小，产品越先进。掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，可以将光刻机所使用的光束分成需要曝光和不需要曝光两部分，将芯片上的图案转移到光刻胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开关操作，可以将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位，使得光束只照射到需要曝光的区域，从而将芯片上的图案转移到光刻胶层上，实施芯片光刻。如果ASML倾向于将“最先进DUV”标准理解为“关键的浸润式系统”，那么上述三款及以后的critical产品将在今年夏天受到出口限制，与之相关备件出口也在限制之列。目前，ASML并未披露在这一时点之前，是否有设在中国内地的芯片工厂购置，使用了NXT:2000i、NXT:2050i等设备。“mid - critical”包括NXT:1980Di、NXT:1980Ei、NXT:1980Fi三款产品，分别于2020~2021年、2021~2022年、2022~2023年推出。按照目前业界的理解，上述产品和备件不会受到今年夏天将要实施的出口管制措施限制。这意味着，不受出口限制的DUV将停留在对准精度2.5纳米的水平。近年来，市场对ArFi的需求旺盛。ASML财报披露，2022年、2021年两年，ArFi出货量均为81台，而在2020年，ArFi的出货量为68台。ArFi已经是目前最为先进的DUV技术，但与EUV在精度等方面有较大的差距。EUV是一种波长较短的电磁辐射，波长在10纳米左右，可以比传统的光刻技术实现更高的分辨率和更复杂的芯片结构，但技术难度大、价格昂贵。从2019年开始，ASML的EUV已经被限制出口。
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