苏大维格表示，立案调查期间，公司将积极配合证监会的调查工作，并严格按照监管要求履行信息披露义务。目前，公司各项生产经营活动正常开展。

　　同日，苏大维格对此前9月中旬深交所下发的关注函进行了回复。

　　在关注函中，深交所要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距。

　　苏大维格指出，从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机(在运行过程中均需要使用掩模板)，包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机(如 DUV和EUV)等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备(LDI)等。半导体及平板显示制造普遍采用“直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。

　　苏大维格表示，公司自2001年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备等，前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。

　　在销售情况上，苏大维格开发生产的激光直写光刻设备是一种多用途的设备，目前主要是自用。公司表示，对外销售的金额较小，2022年实现对外销售收入约770.93万元，2023年上半年实现对外销售收入约2177.27万元，客户主要包括两类：第一类是高校和科研院所，其采购公司光刻设备主要是用作相关领域的研究；第二类客户是除高校和科研院所外的其他客户，主要包含各类企业客户，其采购公司光刻设备主要用于其部分产品的研发及小批量试制、微纳光学材料及光通讯器件的制作等领域。

　　关注函中提到，苏大维格9月14日午间于互动易回复投资者提问时表示“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”，并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”。

　　当日午后，苏大维格股价迅速拉升至“20cm”涨停。

　　苏大维格对此回复称，公司证券部门在回复相关互动易问题时，直接使用了“光刻机”“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述，未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，未详细说明公司光刻设备的具体类型，公司主要的应用领域，与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息；也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。前述回复引起了部分投资者误会和误解，并导致公司股价发生较大波动。

　　苏大维格称，公司及证券部门诚恳向投资者表示歉意，并将积极吸取经验教训，进一步完善相关制度和程序，持续学习相关产业政策和文件，努力提升与投资者互动沟通的严谨性与信息传递的完整性，不断提升公司信息披露水平。

　　资料显示，苏大维格于2012年在深交所上市，是一家以自主研发的三维光刻设备为核心驱动力，面向信息光子和新型显示领域，进行光电子材料器件研究和产业化的股份制民营企业。

　　二级市场上，受益于9月以来的大幅拉升，苏大维格年内股价已涨超40%。(中新经纬APP)

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