· 产业链：
产业链中游主要分为三种光刻胶：PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。
· 分布情况：
根据慧博咨询数据显示：光刻胶下游应用分布较为较为均衡，其中 LCD 用光刻胶占光刻胶总消费量的比例达 27%，半导体用光刻胶、PCB 用光刻胶占比均为 24%，其他类光刻胶占比达 25%。近年，电子信息产业更新换代速度不 断加快同时，随半导体、显示面板、光刻胶产业的东移，中国光刻胶需求快速提升，中国光刻胶市场规模从 2015 年的 100 亿元，快速增长至 2020 年的 176 亿元，年均复合增速高达 11.97%。
· PCB 光刻胶：门槛低
1990 年以前，全球 PCB 市场由欧美日主导，从2002年开始，外资PCB光刻胶企业陆续在中国建厂，其中的规模也逐步稳定，市场也开始扩容从2015年的 70 亿元人民币，增长至2020年的85亿元人民币，年均复合增速达4.0%。只不过主要集中在中低端产品市场。
PCB 是电子产品中不可或缺的元件，近年需求也稳步增长。并且像物联网、汽车电子、工业 4.0、云端服务器、存储设备等将成为驱动 PCB 需求增长的新方向；目前PCB光刻胶的技术门槛较低，中国代表企业为：容大感光等。
· LCD 光刻胶：市场稳健增长
面板光刻胶主要分为：彩色、黑色、触摸屏用、 TFT-LCD 正性。那在整个LCD 显示器加工过程中：彩色滤光片是液晶显示器实现彩色显示的关键器件。而彩色滤光片的制造，是用彩色与黑色的光刻胶完成制造而成。所以光刻胶质量的好坏直接影响彩色滤光片的显色性能，是 LCD 制造业的关键上游材料。
根据 TrendBank 数据：彩色滤光片占面板成本的 21%。而在彩色滤光片材料成 本中，彩色光刻胶和黑色光刻胶在整体成本中占比约 46%。
目前的彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，根据中商产业研究院数据：中国彩色和黑色光刻胶市场占有率：仅为 5%左右，主要的市场集中在日本和韩国外资品牌占领。触控屏光刻胶技术上有所突破，国产化率在30%-40%左右。目前海外代表企业有：默克（德）、东进世美肯（韩）、东京应化（日）、三洋光学（日）、JSR（日）、三菱化学（日）。中国企业有：雅克科技、飞凯材料、彤程新材等。
· 半导体光刻胶：技术难度最高，增速最快
半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为：g线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新兴起的 EUV 光刻胶5大类。高端类的光刻胶指主要指：KrF、ArF 和 EUV 光刻胶，等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度越大，性能越好。
KrF 和 ArF，适用于 0.25μm-7nm 制，基本涵盖当前主流芯片领域，包括大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片。对比来看。
· KrF 光刻胶主要应用于 3D NAND 堆叠架构中，随着堆叠层数的增加，用量将大幅提升。
· ArFi（ArF 湿法）光刻胶则主要应用于先进制程中的多重曝光过程，需求比ArF（ArF干法）更多，随着技术节点向前推进 ArFi 用量增长很快。
整体上，KrF 与 ArFi 基本覆盖主流芯片制程和应用需求，且在单芯片制作过程中用量相比更多，因而成为了光刻胶市场上需求最大的两类。此外，根据德邦研究所数据显示：EUV 光刻胶的应用范围也正在从逻辑芯片扩展到存储芯片中，随着先进制程渗透率提升以及工序步骤的增加，EUV 光刻 胶市场需求将快速提升，占比预计将从 2020 年的1%提升到 2025 年的10%。
· 市场格局：
全球半导体光刻胶市场高度集中，一直以来由日美企业牢牢掌握，尤其是在高端的 KrF、ArF、EUV 光刻胶市场，垄断格局更为明显。根据慧博咨询数据显示：前五大厂商占据全球87%的市场份额。其中像：日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、美国杜邦（DD.US）、信越化学（SHECY.US)、富士电子（日），市占率分别为 28%、21%、15%、13%、10%。
而随着半导体产业链配套需求的提升，国内一批优秀的龙头公司正积极突破，EUV 胶方面，北京科华已通过 02 专项验收；ArF 胶方面，上海新阳等正处于客户测试阶段，南大光电等已获部分客户认证。
整体来说：光刻胶制造环节，当前全球光刻胶生产制造主要被日本JSR、信越化学、住友化学、东京应化、美国陶氏化学等制造商所垄断，中国本土企业在光刻胶市场的份额较低，与国外光刻胶制造商相比仍存明显差距。
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