光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。需要在几微米的面积内刻蚀上亿个晶体管，这台机器需要全天候24小时运行，且不能出现可是误差等。集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。
目前主流的光刻机制造商是荷兰的ASML，其前身是飞利浦物理实验室。得益于整个欧洲的优势结合，生产一台光刻机，需要一整个产业链的厂商的配合。有生产高精度镜头的，有生产高精度电机的，工艺可以说需要达到吹毛求疵的程度。
上个世纪90年代是日本半导体的辉煌时期，这个时期日本拥有尼康和佳能两家具有十分尖端镜头生产能力，得益于此，日本半导体称霸世界许多年。而此时，ASML还只是一个连半台成品光刻机都没有研发出来的初创公司。但是一个好汉三个帮，号称世界上最精密的仪器，必然是得到了许多巨头的垂怜，其中就有韩国的三星和荷兰的飞利浦。韩国人不想在半导体上面输给日本人，于是联合扶持出了如今能生产世界上最顶尖光刻机的ASML。
那么我们离顶尖光刻机有多远？当然是需要一个好汉三个帮，我们需要扶持一家能生产出极度精细镜头的厂家，还需要发展一家可以制造一次只移动几纳米距离的步进电机。只有先做到这两点，才能打下一个比较好的基础。路途遥远，希望我们沉得住气。
如上的资料都是在各家媒体上借鉴的，小编愚见，希望看客们发表更高深的看法。
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