众所周知，目前的芯片制程技术是7nm，而明年台积电将进入5nm的芯片时代，到于3nm，2nm这些，暂时还没有技术规划路线图。
而随着芯片制程技术的提升，芯片制造过程中最重要的光刻机、刻蚀机等也需要技术改进。基于此，近日传出在光刻机领域拥有绝对领导位的ASML也正式研发第二代EUV光刻机。
其实对于光刻机来讲，并不是一种芯片制程就对应一代光刻机的，像中芯国际采购那一台第一代EUV光刻机就可以生产14-7nm的芯片。
而第二代EUV光刻机主要是应对5nm以下的芯片，采用了一种新的High NA透镜，这个透镜的采用可以提升微缩分辨率，同时套准精度，据说在这两个指标上提升70%，这样便于生产制程更小的芯片，至于能够支持到3nm，5nm还是多少，ASML未公布具体的消息。
而价格方面，考虑到第一代EUV光刻机的售价已经超过1亿美元了，那么第二代只会更贵，必然会超过1亿美元， 肯定也就超过7亿元人民币了。
另外从产能来看，前期不会高，并且ASML会第一代和第二代同时生产，以满足不同的厂商需求。不过按照惯例，肯定也是要等台积电、英特尔、三星这些股东厂商买剩了，才轮得到大陆的厂商，比如中芯国际等。但我们也知道这种产品在前期是供不应求的，所以大陆厂商暂时就别想了。
目前，国内厂商生产的刻蚀机能支持5nm的芯片了，但国产光刻机，则还停留在28nm芯片的水准，所以国产厂商真的需求加油。
毕竟像ASML的先进产品，国内在前期是买不到的，而国内目前芯片正在蓬勃发展，正需要先进的光刻机。
| 留言与评论（共有 0 条评论） |
