半导体芯片领域初有成就

智慧点亮生活，科技创造未来。在21世纪，科技成为重中之重，哪个国家掌握先进科技，谁就有话语权！而为先进科技奉献一生的科研人员更是使得我们尊敬，国家也应视他们为最大的财富。2016年1月17日，中国大陆第一个由企业家与科学家共同开设的民间科学奖项诞生，名为“未来科学大奖”，其中有物质科学、生命与科学和计算机与数学三大奖项，每项奖金壹佰万元。

在经过2月份至5月份的正式提名后，未来科学大奖获奖名单于9月8日下午在北京揭晓，马大为、冯晓明和周其林获物质科学奖李家洋；张启发与袁农平获生命科学奖；而计算机与数学奖则颁给了林本坚博士，以表彰他开拓浸润式微影系统方法，为我国半导体芯片做出不可磨灭的贡献！

光刻机成为技术瓶颈

其实我国在半导体芯片的研究上其实下了很大的功夫，克服了许多难题，本以为已经处于高速发展，不久就可以媲美欧美强国之时，却被一种技术卡了脖子，那就是光刻机技术。大家可以想象，想要把小到几十纳米甚至几纳米的电路刻画到大小不过几平方厘米的晶圆上该是一件多么困难的事。自然，人类无法做到，一般的机器也无能为力，这就需要非常非常精准的仪器，而其中最重要的便是光刻机和蚀刻机，二者缺一不可，偏偏技术难度还贼大，而发达的欧美等国也是严密的守住技术，不让我们引进。

对于蚀刻机，我国已经成功突破了技术封锁，美国已在2015年解除对中国的刻蚀机封锁，所以，“中国芯”长期以来受制于人就是因为光刻机。目前有能力制造光刻机的国家屈指可数，其中荷兰的ASML公司绝对是“扛把子”，它的光刻机占全球市场的80%。不过，林本坚博士却开创了一种极富突破性的浸润式微影（也称光刻）方法，这是一种新的光刻方法，它革新了集成电路的过程，使半导体芯片的特征尺寸可持续缩减为细微纳米量级，林本坚的这种方法在科学和工程上被证实了，“湿式”光刻方法可用于最先进的IC制程。不过，即使如此，我国的光刻机技术还是有差距，据悉，如今的世界最为顶尖的光刻机可达到7nm但中国自主研发的仅仅只有28nm，如此看来，在光刻机技术上，我们依然是任重而道远。

华为芯片能否崛起？

4月16日，美国商务部宣布禁止美国公司向中兴通讯销售零部件、商品、软件和技术，这就是当时震惊一时的“中兴事件”，国人突然发现，中国半导体产业全球化和中国整机厂商的蓬勃发展就像是一场梦，就像是阳光下的泡沫，美丽动人却一触就破，正是因为我们的核心技术仍然受制于人，我们一定要发展“中国芯”！

据媒体报道，9月7日，微软正在与华为商讨合作事宜，微软有意愿在中国的数据中心使用华为新开发的AI芯片而非英伟达（Nvidia），要知道，英伟达在AI芯片领域有垄断地位，阿里巴巴、腾讯和百度的数据中心所使用的AI芯片都是英伟达的产品。如果此次交易更够达成，这将是华为首次挑战美国英伟达。当然，英伟达在AI芯片领域的优势是巨大的，华为能否拿下这一城还不确定，但不得不说，华为近几年的表现可谓是可圈可点，最为中国最大的芯片开发商之一，华为在AI芯片领域不断突破，世界上第一枚商用的7nm芯片正是华为的麒麟980芯片。除华为之外，阿里巴巴也有研发自己的AI芯片。

不得不说，这一交易虽还没有达成，但足以令国人欣慰了，如果华为能够与微软达成合作，虽然在商业层面上不会有大的改变，但会使华为在AI芯片领域赢得信誉和口碑，在将来这可以是一块招牌！“中国芯”的路还很长，又或许华为与微软的合作只是华为芯片崛起的开始？这谁也说不准，但我们能确定的是每个国人都期待早日用上中国芯！