简单说，数字半导体元件的原理其实很简单：就是一堆二极管，开一下是1，关一下是0，来实现数字运算。但是，一个CPU需要很多很多二极管。大家现在常见的CPU I7，在你小指甲盖那么大的面积上，有17亿个二极管。这些二极管，从原理上说，是用光学（主要是激光）技术，从硅芯片上“雕刻”出来的。这就叫光刻。在一粒大米上刻出一个颐和园，很了不起了吧？光刻微笑不语。一根头发丝的直径大约是6万纳米，你先记得这个数字。光刻的一个工艺指标叫线宽，通俗说就是能雕刻的最小尺寸。中国目前自己研发的设备，听到的最大精度是90纳米，去年10月发布的，而且还是科研阶段，见图1.那是下面这个企业上个世纪的水平。英特尔现在量产的芯片中，最大精度用到了3纳米。也就是说，可以在一根头发的截面上，错落有致地刻2万下。目前最好的电脑CPU，差不多要5纳米技术才刻得出来。光刻机这个东西，最厉害的厂家居然在荷兰，叫ASML。他们工厂最爱说的一句话是：给你全套图纸你也造不出来。这是真的，他的市场份额是90%，尖端的就是100%，美帝日本还真的只能排队买它的。10纳米以上精度的，他的产量也高不了，每个月一台，现在的订单已经排到了后年。这玩意的样子就是图2那样。这只是芯片量产需要的十几种关键设备中的一种。别的一些设备，我们还是空白。除了设备，要把它玩转也不简单。几年前厦门联芯、中芯国际引进了28纳米设备，现在还没彻底玩转，良品率还比较低。更不用说，你得先自主设计出CPU了，才能上机器去刻。直接抄不行哦，这是最严密保护的知识产权。何况也没那么容易抄：90纳米的设备，怎么抄3纳米的雕刻品？所以我说，就尖端芯片来说，如果要达到自主开发和量产，我们下辈子都可能达不到英特尔、AMD他们的水平，不是瞎说的。1950年代，我们的差距还没有那么大。哈工大研制出第一台计算机的时候，当时真的与美帝只差了半代。现在差了接近三代。时间去哪儿了？今天先说到这里。