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文/大章说科技
众所周知，在电子设备的核心领域芯片制造上，我国仍然和国外顶尖技术有着相当距离的差距，有人可能就会认为是理论和工艺上不行了，其实并不是这样的，超高精度芯片的制造比较复杂，经常会涉及到除了芯片制造以外的一些行业，也就是说，要完整的制造一个芯片，需要一个超级庞大完整的工业链。
制造芯片的众多设备当中，有一种叫做光刻机的设备，这种设备长期被国外的巨头所垄断，属于民用科技领域最高端的技术，所以每一台的售价可想而知，上亿美元一台，不过就像港珠澳大桥的建设一样，国外出高价卡我们的脖子，我们就自己研发。
就在近日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这台设备由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到了22纳米，结合双重曝光技术之后，未来可以用来制造10纳米级别的芯片！有很多懂一点的朋友们可能就会吐槽了。
才22纳米，和国外的7纳米差的有点远了吧，话不能这么说，国外起步早，自然走得快，一项技术的研究当中，最难的不是从1到100，而是从0到1，所以说我国这一步可以说是从0跨越到了1，之后的路应该会走的更快更稳更好，国产强芯之路应该不远了。
本文由大章说科技原创制作，特此声明。
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