文/惜谈

“用粗刀刻细线”：中科大实现芯片技术突破，创造超分辨光刻机

说到现如今的高精尖科技，核心设备——芯片的制造绝对是难度系数最大的。而我们中国在制造芯片领域，一直都是依赖由国外进口的光刻机，不过近来中科院又为大家带来了一个好消息，中国自主创造的最强紫外超分辨光刻机诞生了，这一技术突破意味着什么呢？

在世界光刻机制造产业中，向来是由荷兰的ASML、日本的尼康、佳能等这些企业实现了技术的垄断。我们中国在芯片制造上也一直是有赖从这些国家进口他们的光刻机，但是从国外进口不仅意味着高额的成本，甚至一旦和外国产生摩擦，还有遭受他们禁运的风险，这就显得十分被动了。

而我们中科院的罗先刚研究员和他所带领的团队们就一直致力于超分辨光刻机的研发，经过多年的技术投入和苦心钻研。终于实现了基础技术突破，为大家带来了最新好消息，用我们中科大研发的最强紫光超分辨光刻机所制造出来的芯片可以达到22纳米级别。这样的技术难度被一位中科院研究员，诙谐的称为“用粗刀刻细线”，这一形象的比喻，也让大家明白了，这一技术有多难。从它问世开始，就被誉为全世界上第一台分辨率最强的紫外超分辨光刻设备。

虽然也有不少客观派认为，虽然我们中国创造出了可以生产如此精细芯片的光刻机，但是它也是存在着一定的技术局限的。因为科学家们论证这一设备成果目前还只能运用在一些普通的光学领域器件当中，而ASML在整个ac制造领域中的分量我们在短期之内还是难以撼动的。但是有突破就有新的发展方向，该光刻机的制造也表明我国在芯片研发上会有更多的可能。也不会像原本一样被动了，不仅突破了国外的技术壁垒，而且通过自主研发，我们也极大的降低了技术成本，自然也就提升了底气。

不知道大家对我们中科大研究员们研发出的这一高科技技术成果怎么看呢？可能许多朋友对22纳米级的理解还不够，那大家就知道这个大小相当于一根头发的三千六百分之一的大小就可以了。

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