目前，荷兰飞利浦公司的ASML光刻机，已经可以通过技术，实现了9纳米、8纳米、6纳米、5纳米、4纳米，以及三纳米的芯片生产。
目前这家公司几乎垄断了市场上的所有光刻机的生产还有研发，面对这项卡脖子的技术，中国研究院，通过了七年的实现，终于研制出了自己的光刻机。
并且还是世界上最高的，此外超分辨光科技到时用了，365纳米波长的光即可生产22纳米的工艺芯片，另外可以通过高深宽比刻蚀，可以实现十纳米以下的芯片生产。
目前是已知分辨率最高的光刻机，它打破了传统，基于表面等离子的原理拥有完全自主的知识产权，将成为最有前景的光学器材。
中国芯片行业能够取得如此重大的突破，将成为挑战台积电，三星，英特尔，背后他发出的有力筹码对此你有什么想说的，欢迎评论到下方。
| 留言与评论（共有 0 条评论） |
