芯片这个领域一直都是我国的一个短板，在之前，我国使用的芯片大部分都是从国外进口的。而近两年，我国也开始重视起这个领域，在对芯片的研发和制作中投入了不少的人力和物力。而我国的一些大品牌企业也开始进军这个领域，想要自主打造出专属于我国的“中国芯”。

在芯片方面，我国已经有了很大的进步和成长，一些外媒看见我国在芯片上面的成功，还有一些眼红。而这也证明，我国在芯片上的技术真的已经越来越厉害了。虽然芯片的技术我们已经掌握了，但在制造芯片的母机上，我国还没有什么出色的成绩。而近日，中科院却为大家带来了一个好消息，这一消息也让不少国人感到非常骄傲。

经过了七年的努力，我国在芯片制造的领域中，又取得了很大的突破。就在近段时间，我国的“超分辨光刻机”已经通过了测试，而这个结果也意味着，我国已经拥有了世界上首台超分辨率光刻的设备。换句话说，我国成功研发出了一种功能很强大的光刻机。这一消息一经曝光，就引起了不少专业人士的关注，一些外国媒体也对此进行了报道。

光刻机这门技术之所以被人们这么重视，也是因为，它是制造出芯片的核心设备。可以说，及时掌握了制造芯片的技术，但是只要没有光刻机，我们还是不能自主制造出芯片。在之前，我们要自主制造芯片的话，还需要向国外购买光刻机。如今，我国已经拥有了属于自己的设备，也算是扬眉吐气了！

在之前，国外使用的光刻机的分辨率只有38nm，而我国研发出的这款光刻机却能达到22nm。如果和双曝光技术相结合的话，在将来，我们还能用它来制造出10纳米的芯片。正因为它有这些优点，所以它也被称为是首台高分辨率光刻机。不过也有网友指出，在短期内，这台设备还是不能运用于IC制造领域，而它也对荷兰的ASML构不成任何威胁。

荷兰的ASML一直都是光刻机最优秀的存在，想要超越它，确实还需要努力和时间。虽然在短期内，确实不会有太大的影响，但是长远来看，这台设备很有可能会出现更多的突破和成绩。对此，你怎么看？