回首2018年，国产芯片经历了极不平凡的挑战和机遇，一方面来自外部环境的重大变化，西方科技强国对于中国发展本土芯片持遏制态势，用“禁售”的手段来阻挡中国芯片的崛起；另一方面，全国上下都在关注国产芯片的发展，发展“中国芯”成为14亿中国老百姓的共识。在挑战和机遇并存的时代背景下，中国半导体科技人员努力奋战，已经在某些核心设备上实现了国产，中科院发布的“微纳米光刻机”备受瞩目。
众所周知，光刻机是制造芯片的设备，如果没有先进的光刻机设备做支撑，台积电、三星是不可能发展到今天辉煌的地步，这种特种设备长期以来被西方国家所禁运。为什么国产芯片始终落后台积电、三星、英特尔好几代？一个重要的原因就是：就算中国企业买得起，国外厂商就是不肯买。直到最近一年，局面才开始出现了缓和，中芯国际已经耗资1亿美金从荷兰ASML哪里预定了一台，但是人家能不能按时交货，还说不准。
中国科学院研发的这台“超分辨光刻装备研制”顺利通过验收，已经充分说明：中国人很聪明，已经初步掌握了光刻机技术。实事求是地讲，我们国产微纳米光刻机还不能跟荷兰ASML制造的最先进EUV光刻机相提并论，技术工艺上差了好几代，但是我们通过自主探索，已经摸清了这里面的门道，好比国外厂商是“本科在读”，而我们已经取得“预科好成绩”，只要我们不断地努力，用不了几年就可以达到同等水平，甚至超过他们。
| 留言与评论（共有 0 条评论） |
