打破美日芯片制造垄断,精度仅发丝1/2万,华为5纳米芯片采用

前言:国内芯片制造领域又一重大突破,打破国外美日高端芯片制造设备的垄断,开发出全球先进的蚀刻机设备,精度高达发丝的2万分之一,并且,全球最大芯片代工厂,中国台湾集成电路公司(台积电),将在其最先进的五纳米芯片制程开发上,采用国产的刻蚀机设备,届时,华为的五纳米麒麟处理器芯片,将首次采用世界领先的国产蚀刻机。

一、国产光刻机、蚀刻机现状

前些日子,中科院的国产光刻机,被媒体大肆宣传,光刻机和蚀刻机,都是芯片加工制造产业的重要设备,二者缺一不可,可以说是芯片制造的魂与魄,光刻机负责在硅片上形成电路,而蚀刻机则负责清理掉多余的部分,可能用文字描述起来,大家觉得非常简单,其实其难度不亚于在米粒上刻出上海的地图,因为芯片制造工艺,目前已处于纳米级,也就是在指甲盖大小的硅片上,雕刻出,比上海地形还复杂的电路图,其难度可想而知。

半导体硅片

目前我国在光刻机产业还比较落后,其实中科院的光刻机并不能实现芯片制造,只能做一些相对简单的应用,更谈不上打破国外的垄断,被很多自媒体过分夸大,我们真正用于芯片制造的商用光刻机产品,还处于90纳米附近,远远落后半导体行业,目前7纳米芯片已经量产,台积电的5纳米也于明年上半年试产。

而光刻机产品我们已经具有世界领先水平,上海的中微半导体,目前已成功研发出5纳米等离子体蚀刻机,并已经过全球最大的晶圆代工厂台积电验证,具备世界领先水平,将被用于全球首条5纳米工艺制程生产线,而华为的麒麟系列处理器芯片,目前全部由台积电代工生产,刚刚发布的麒麟980处理器芯片,就是采用台积电的最新7纳米工艺制程,未来华为的5纳米麒麟处理器芯片,将采用国产先进的蚀刻机设备生产。

中微半导体蚀刻机产品

二、中微半导体突破海外封锁

中微半导体成立于2004年,由40多位半导体设备专家创办,创立之初就高举高打,着手开发40纳米蚀刻机技术,当时国际上半导体制程还处于90纳米时代,所以设备研发成功便一举成名,中微半导体核心团队有600多名员工,来自全球十多个国家和地区,每个人都有很强的专业技术背景。

中微半导体研发人员

中微半导体拥有大量的核心专利,面对西方国家的专利诉讼从未失败,蚀刻机曾经是西方国家的出口管制设备,但自从中微半导体打破国外的技术垄断之后,出口管制既被取消,现如今,中微半导体与美国应用材料、日本东京电子、日本日立、美国泛林集团,共同位列国际半导体设备第一阵营,为先进的半导体技术提供生产设备。

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