2017 年出货 11 台,2018 年出货 18 台,ASML(阿斯麦)上周表示,计划在 2019 年出货 30 台 EUV 光刻机。
目前,ASML 占有全球光刻机市场 70% 的份额,远远领先尼康。更重要的是,仅荷兰 ASML 有能力制造和出货 EUV 光刻机,尼康的最高技术水平还停留在 ArF 氟化氩沉浸式光刻机。
与此同时,ASML 将在 2019 年推出产能更高的新型号 Twinscan NXE: 3400C,取代现款售价 1.2 亿美元(约合 8 亿)的 Twinscan NXE: 3400B。3400C 的每小时晶圆雕刻能力从 155 片提升至 170 片,换装 Cymer 公司的 340W 光源。
资料显示,截至去年 7 月,全球各公司、研究机构等总共仅安装了 31 台 EUV 光刻机。不过,遗憾的是,迄今,大规模使用 EUV(极紫外光刻)技术的先进工艺仍未量产,三星 7nm LPP 理论上进度最快,但当下仅限于在 S3 工厂小规模投产,年底位于韩国华城、投资 6 万亿韩元(约合 362 亿元)的工厂竣工后,将是三星 7nm EUV 主力厂。
另外,台积电的第二代 7nm 也将在非关键步骤上采用 EUV 技术,Intel、SK 海力士也都对 EUV 光刻机有强烈需求。
留言与评论(共有 0 条评论) |