2017 年出货 11 台，2018 年出货 18 台，ASML（阿斯麦）上周表示，计划在 2019 年出货 30 台 EUV 光刻机。
目前，ASML 占有全球光刻机市场 70% 的份额，远远领先尼康。更重要的是，仅荷兰 ASML 有能力制造和出货 EUV 光刻机，尼康的最高技术水平还停留在 ArF 氟化氩沉浸式光刻机。
与此同时，ASML 将在 2019 年推出产能更高的新型号 Twinscan NXE: 3400C，取代现款售价 1.2 亿美元（约合 8 亿）的 Twinscan NXE: 3400B。3400C 的每小时晶圆雕刻能力从 155 片提升至 170 片，换装 Cymer 公司的 340W 光源。
资料显示，截至去年 7 月，全球各公司、研究机构等总共仅安装了 31 台 EUV 光刻机。不过，遗憾的是，迄今，大规模使用 EUV（极紫外光刻）技术的先进工艺仍未量产，三星 7nm LPP 理论上进度最快，但当下仅限于在 S3 工厂小规模投产，年底位于韩国华城、投资 6 万亿韩元（约合 362 亿元）的工厂竣工后，将是三星 7nm EUV 主力厂。
另外，台积电的第二代 7nm 也将在非关键步骤上采用 EUV 技术，Intel、SK 海力士也都对 EUV 光刻机有强烈需求。
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