EUV光刻机，如鲠在喉，让我们的半导体制造业过得非常难受。聚集西方高端先进技术，用数十万零件才能组建而成的EUV光刻机，是半导体制造业的顶峰技术，也是高端制程芯片的摇篮。这导致在高端智能手机，超级计算等领域，如果我们没有EUV光刻机，就难以有所进展。

林本坚，创造改变光刻机产业格局的技术

EUV光刻机，世界上只有一家能够生产，那就是ASML。但ASML在光刻机发展历史上，并不一直处于领先位置，最早的时候，其是被日本的尼康、佳能给按在地上摩擦的。

直到ASML开始使用浸入式光刻技术，才慢慢实现反超，最终奠定光刻机之王的地位。

很多人不知道的是，这个助力ASML登顶的“浸入式光刻技术”，其实是华人开创的。这个华人名叫林本坚，曾在IBM工作20年，是半导体行业的大拿。2000年，他加入台积电，两年后，研发出“浸润式微影技术”。

正是这项技术，打破了干式光刻机垄断市场的局面，彻底改写了光刻机产业的格局。

尼康们的恐慌

在2002年的一场芯片研讨会上，林本坚受邀讲解上台演讲。那一天，他提出了用水作为浸润式液体，可以帮助光刻机光源波长从193nm推进到132nm。要知道，那时候的尼康和佳能们正被157nm所困扰，结果林本坚却直接告诉他们可以直接跳过157nm，到更先进一代，可想而知他们有多震惊。

但震惊之后，尼康们所想的不是拥抱新技术，而是“排斥”。因为当时尼康们的底蕴全部来自于干式光刻机，他们如果从浸润式重新起步，那等于是在放弃自己长久以来建立的产业优势以及在干式光刻技术上投入的重金。显然，那会的尼康们还没有这样的魄力。

虽然新技术让尼康们感到恐慌，但是后来者的ASML和台积电却大胆迈出了第一步。2003年，台积电和ASML合作，世界上第一台浸润式光刻机随之诞生。很快，浸润式光刻机就凭借自己的优势吊打干式光刻机。

尼康们的恐慌终于变成了真实的失败，ASML凭借开始掌握行业优势，最终打造出EUV光刻机，优势成胜势。

台积电的领先

因为最早抓住浸润式光刻技术的机遇，台积电也从55nm开始，连续将摩尔定律的进展向前推进了7代，直到如今的5nm，3nm。如果没有林本坚，台积电不可能成为晶圆代工的老大，ASML也不可能成为EUV光刻机的独家代言企业。

2015年的时候，林本坚从台积电退休。张忠谋感慨万千，在晚会上对着林本坚说道：如果没有你（林本坚），台积电的微影（光刻技术）不会有今天这样的水平。

半导体产业，华人的力量

除了林本坚之外，在半导体产业，其实是华人撑起了半边天。比如说加州大学伯克利分校胡正明教授，FinFETch工艺的创始人，突破了芯片20nm制程；曾经在德州仪器工作，后来创建台积电的张忠谋，英伟达黄仁勋，AMD苏姿丰等等。

炎黄子孙的力量从来不逊于任何人，华人已经证明了我们有足够的聪明才智在半导体产业搅动风云。相信未来，我们一定能够突破EUV光刻机的限制，真正实现芯片自主。