导读：信息社会的迅猛发展极大推动了对高性能计算的需求。而先进互补金属氧化物半导体（CMOS）制造工艺是制造高性能计算芯片的保障，因此成为世界顶尖设计公司和芯片制造企业竞争的技术高地。文章概述了鳍式场效应晶体管（FinFET）之后技术演进到环栅场效应晶体管（GAAFET）的必然性，以及在工艺模块、系统集成和工艺无损表征上带来的挑战。在先进CMOS制造工艺技术的创新上，需要有从器件开发到系统设计的思维转变；设计工艺协同优化（DTCO）将会发挥越来越重要的作用。面向未来国产先进的CMOS制造工艺的发展，在技术开发和人才培养方面提出了发展建议和举措。

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关于本刊

《前瞻科技》是由中国科学技术协会主管，科技导报社主办、出版的科技智库型自然科学综合类学术期刊，于2022年创刊。

办刊宗旨：围绕国家重大战略任务、科技前沿重要领域和关键核心技术，刊载相关研究成果的综述和述评，促进学术交流，推动科技进步，服务我国经济社会高质量发展。

常设栏目有“前瞻”“综述与述评”“聚焦”“论坛”“文化”“书评”等，其中“前瞻”“综述与述评”为固定栏目，其他为非固定栏目。

期刊官网：www.qianzhankeji.cn